德国 VACOM Vacuum-Chamber 真空腔体

产品概述

VACOM Vacuum-Chamber 是德国 VACOM 公司推出的高品质真空腔体产品,专为半导体制造、真空镀膜与科学研究等尖端领域设计。该系列采用优质不锈钢材料制造,经严格的真空性能测试,可在超高真空环境下长期稳定运行。真空腔体作为真空系统中的核心容器,其性能直接关系到整体真空环境的稳定性与可靠性。元锤作为德国 VACOM 中国区官方代理,为客户提供全面的真空腔体选型、技术支持和采购服务。

VACOM Vacuum-Chamber 完全符合 DIN、ISO 等国际真空标准,适用于从粗真空到超高真空的全谱段应用。通过精密焊接与严格质量管控,该系列在密封性能与机械强度方面达到业界领先水平,可满足包括半导体、科研、分析仪器在内的多种高端应用场景的严格要求。每个真空腔体均经过氦质谱检漏测试,确保出厂零泄漏。

产品特点

  • 卓越密封性能:采用精密焊接工艺,出厂氦质谱检漏低于 1×10⁻¹² mbar·L/s,确保超高真空环境。
  • 优质材料:采用 304L/316L 不锈钢,内壁电抛光处理,低放气率,适用于 UHV 和 XHV 系统。
  • 灵活定制:支持圆柱形、方形、球形等多种腔体几何结构,可按照客户要求定制接口和开孔位置。
  • 广泛兼容:兼容 ISO-KF、ISO-K、CF、QCF 等主流法兰标准,无缝对接各类真空泵和测量设备。
  • 热稳定性:支持最高 450°C 烘烤除气,温度循环下保持可靠密封性能。
  • 可追溯质量:每件真空腔体含独立序列号及完整生产检测数据报告。

可选型号

型号 类型 内径 接口配置 极限真空
VC-CYL-DN100 圆柱形 DN100 KF/CF ≤ 10⁻¹¹ mbar
VC-CYL-DN160 圆柱形 DN160 ISO-K/CF ≤ 10⁻¹¹ mbar
VC-CYL-DN200 圆柱形 DN200 ISO-K/CF ≤ 10⁻¹¹ mbar
VC-CUBE-DN200 方形 DN200 多接口可定制 ≤ 10⁻¹¹ mbar
VC-CUST 定制型 按需设计 全接口定制 按设计要求

技术参数

参数 指标
适用真空度 大气压 ~ 1×10⁻¹¹ mbar(UHV)
泄漏率 < 1×10⁻¹² mbar·L/s
温度范围 -196°C ~ +450°C
烘烤温度 最高 300°C(450°C 选配)
主体材料 不锈钢 304L / 316L
密封材料 FKM / 无氧铜 / 金属密封
表面处理 电抛光 / 酸洗钝化 / Purity Class 3
适用介质 惰性气体、高纯工艺气体、反应气体

典型应用

  1. 半导体制造:真空腔体用于 PVD、CVD、刻蚀等前道工艺,为芯片制造提供稳定的真空工艺环境。
  2. 真空镀膜:在光学薄膜、功能涂层及装饰镀膜设备中作为主真空腔体,保障沉积质量。
  3. 科学研究:满足表面物理、材料分析、量子技术等前沿研究对超高真空实验环境的需求。
  4. 粒子加速器:用作束流管线真空腔体或实验站真空容器,支持同步辐射和高能物理研究。
  5. 分析仪器:配套电子显微镜、质谱仪、光谱仪等精密分析设备,确保分析结果的精确性。
  6. 工业真空处理:服务于真空炉、真空干燥、真空浸渍等工业设备,兼顾性能与经济性。

关于元锤

元锤是德国 VACOM 中国区官方授权代理,专业从事进口真空组件销售与技术服务。总部位于上海,团队具备丰富真空经验,为客户提供从选型、方案设计到售后的一站式服务。如需了解更多关于 VACOM 真空组件系列产品的信息,欢迎访问元锤官方网站。

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