德国 VACOM CASSINI-CVS-4-1A00-3012 真空测量与控制设备

产品概述

VACOM CASSINI-CVS-4-1A00-3012 真空测量与控制设备 是德国 VACOM 公司推出的高品质真空测量与控制设备产品,专为半导体制造、真空镀膜与科学研究等尖端领域设计。该系列采用优质不锈钢材料制造,经严格的真空性能测试,可在超高真空环境下长期稳定运行。真空测量与控制设备作为真空系统中的关键组成部分,其性能直接关系到整体真空环境的稳定性与可靠性。元锤作为德国 VACOM 中国区官方代理,为客户提供全面的真空测量与控制设备选型、技术支持和采购服务。

VACOM CASSINI-CVS-4-1A00-3012 真空测量与控制设备 完全符合 DIN、ISO 等国际真空标准,适用于从粗真空到超高真空的全谱段应用。通过精密加工与严格质量管控,该系列在密封性能与机械强度方面达到业界领先水平,可满足包括半导体、科研、分析仪器在内的多种高端应用场景的严格要求。

产品特点

  • 高精度电容薄膜测量:采用电容薄膜测量原理,精度高、响应快
  • 宽压力范围:量程覆盖 1×10⁻³ 至 100 mbar
  • 长期稳定性:零点漂移低 < 0.005% FS/年
  • 耐腐蚀设计:Inconel 膜片和哈氏合金主体,耐腐蚀性气体
  • 温度补偿:宽温区补偿,确保 0°C 至 50°C 范围内精度稳定
  • 模块化设计:输出信号和接口可按用户需求灵活配置

可选型号

型号 量程 精度 法兰 输出信号
CVS-4-1A00-3012 1×10⁻³ ~ 10 mbar ±0.2% FS DN40 CF 0~10 V
CVS-4-1B00-3012 1×10⁻² ~ 100 mbar ±0.2% FS DN40 CF 0~10 V

技术参数

参数 指标
测量范围 1×10⁻³ ~ 100 mbar
测量精度 ±0.2% 满量程
零点漂移 < 0.005% FS/年
响应时间 < 30 ms
膜片材料 Inconel
法兰接口 DN40 CF
输出信号 0~10 V DC
工作温度 0°C ~ +50°C

典型应用

  1. 半导体制造:用于 PVD 和 CVD 工艺腔体的精确真空度控制
  2. 真空镀膜:光学镀膜和功能薄膜沉积的真空度测量
  3. 科学研究:超高真空系统的二次测量标准
  4. 分析仪器:精密分析仪器的真空度监测
  5. 工艺控制:批量生产中的真空度自动控制
  6. 工业应用:真空炉和热处理设备的真空度检测

关于元锤

元锤是德国 VACOM 中国区官方授权代理,专业从事进口真空组件销售与技术服务。总部位于上海,团队具备丰富真空经验,为客户提供从选型、方案设计到售后的一站式服务。如需了解更多关于 VACOM 真空组件系列产品的信息,欢迎访问元锤官方网站。

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