美国Logosol LPA26-3晶圆预对准器 2-6英寸 半导体设备 中国代理

一、产品简介

Logosol LPA26-3 是一款高性能独立式晶圆预对准器(Standalone Wafer Prealigner),专为处理 2 英寸至 6 英寸(50mm–150mm)晶圆设计。该设备采用 Logosol 自主研发的全集成一体化设计理念,将控制器、伺服驱动和电源模块集成于紧凑机身中,无需外部控制箱即可完成高精度晶圆对准操作。

LPA26-3 适用于半导体制造中的光刻、刻蚀、检测、薄膜沉积等多个工艺环节,是提升产线自动化水平和晶圆定位精度的理想选择。

二、技术参数

参数项目 规格
产品型号 LPA26-3
产品类型 Standalone(独立式)
晶圆尺寸范围 2英寸(50mm)– 6英寸(150mm)
晶圆材质兼容 透明/半透明/不透明晶圆
对准精度 高精度光学扫描对准
对准方式 边缘检测 + 缺口/平边对准
典型对准时间 <5秒
装片方式 Chuck Load / Pin Load 双模式
控制方式 All-in-One 一体化控制(内置控制器)
通讯接口 RS-232 / Ethernet / I/O 接口
材质 铝合金机身,防静电涂层
洁净等级 Class 1 洁净室兼容

三、产品特点

  • All-in-One 一体化设计:控制器、伺服驱动器和电源全部集成于机身内,无需外部控制箱,简化系统布线
  • 多尺寸兼容:无需机械调整即可在 2-6 英寸范围内切换晶圆尺寸
  • 多材质支持:可识别透明、半透明和不透明晶圆
  • 高精度对准:光学扫描边缘检测,精确定位晶圆中心和缺口方向
  • 快速响应:典型对准时间小于 5 秒,提高设备吞吐量
  • 多种安装方式:支持 Chuck Load 和 Pin Load 模式,适配不同传输系统

四、应用领域

  • 半导体光刻设备(Track / Stepper / Scanner)
  • 晶圆检测与量测设备
  • 薄膜沉积(PVD、CVD)制程
  • 刻蚀设备(Dry Etch / Wet Etch)
  • CMP 化学机械抛光
  • 晶圆清洗设备
  • 研发实验室和小批量产线

五、选型指南

LPA26-3 适合处理 2-6 英寸晶圆的用户。如果您的晶圆尺寸在 6 英寸以下且需要独立式预对准功能,LPA26-3 是最优选择。如需处理更大尺寸(8-12英寸),请参考 LPA312-3 或 LPA1218-3 型号。


联系我们

元锤科技(OneHammer Technology)——美国LOGOSOL晶圆预对准器中国区代理

如需产品选型、技术方案咨询或索取报价,欢迎联系:

罗经理 | 电话/微信:15618182182

我们提供专业的技术支持和快速的供货服务,助力您的半导体制造项目顺利推进。

更多产品https://onehammertech.com/logosol-prealigner/

Related posts