加拿大Angstrom EngineeringECR-Source-200电子回旋共振等离子体源专为200mm口径ECR等离子体源薄膜沉积辅助刻蚀而设计，采用先进制造工艺和严格质量控制，提供卓越的性能表现。产品广泛用于低温光学薄膜ECR等离子体辅助沉积、高密度低损伤等离子体刻蚀、氮化硅薄膜ECR-CVD沉积，是科研与工业应用的专业选择。
**产品规格表**
| 项目 | 参数 |
|——|——|
| 品牌 | Angstrom Engineering |
| 国家 | 加拿大 |
| 型号 | ECR-Source-200电子回旋共振等离子体源 |
| 产品类型 | 200mm口径ECR等离子体源薄膜沉积辅助刻蚀 |
| 功能 | 200mm口径ECR等离子体源薄膜沉积辅助刻蚀 |
| 用途 | 低温光学薄膜ECR等离子体辅助沉积、高密度低损伤等离子体刻蚀、氮化硅薄膜ECR-CVD沉积 |
| 适用客户 | 科研院所、工业用户、系统集成商、实验室 |
| 选型重点 | 性能参数、应用场景匹配、配套需求 |
| 采购服务 | 元锤OneHammer提供选型指导与进口采购服务 |
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