加拿大Angstrom EngineeringCoSputter-3-Target专为三靶共聚焦旋转基片磁控溅射阴极，多材料多元合金薄膜共沉积而设计，采用先进制造工艺和严格质量控制，提供卓越的性能表现。产品广泛用于多元合金功能薄膜组分梯度共溅射制备、金属/介质多层复合薄膜全自动交替镀制、超硬涂层CrN/AlCrN多元氮化物溅射，是科研与工业应用的专业选择。
**产品规格表**
| 项目 | 参数 |
|——|——|
| 品牌 | Angstrom Engineering |
| 国家 | 加拿大 |
| 型号 | CoSputter-3-Target |
| 产品类型 | 三靶共聚焦旋转基片磁控溅射阴极，多材料多元合金薄膜共沉积 |
| 功能 | 三靶共聚焦旋转基片磁控溅射阴极，多材料多元合金薄膜共沉积 |
| 用途 | 多元合金功能薄膜组分梯度共溅射制备、金属/介质多层复合薄膜全自动交替镀制、超硬涂层CrN/AlCrN多元氮化物溅射 |
| 适用客户 | 科研院所、工业用户、系统集成商、实验室 |
| 选型重点 | 性能参数、应用场景匹配、配套需求 |
| 采购服务 | 元锤OneHammer提供选型指导与进口采购服务 |
—
**联系方式**
**元锤 OneHammer** 专注进口科学仪器与工业设备供应
📞 **王经理**：**15618182182**（微信同号）
为科研院所、高校、企业提供进口科学仪器采购咨询与技术支持。欢迎来电询价选型！
—