Alesa Evatech电子束蒸发镀膜系统专为精密光学薄膜制备设计，支持大尺寸基片（最大直径800mm）。配备多坩埚电子束源，膜厚均匀性<±1%，可沉积SiO₂、TiO₂、Ta₂O₅、MgF₂等多种介质膜材料。全自动工艺控制，适配光通讯和激光器件镀膜需求。
| 参数 | 规格/描述 |
|---|---|
| 最大基片尺寸 | 直径800 mm |
| 膜厚均匀性 | <±1% |
| 沉积材料 | SiO₂ / TiO₂ / Ta₂O₅ / MgF₂ 等 |
| 坩埚位 | 6位或多坩埚设计 |
产品应用
- 精密光学滤光片和激光镜片镀膜
- DWDM/CWDM薄膜滤光片制造
- 抗反射和增透膜系制备
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联系方式
元锤 OneHammer 专注进口科学仪器与工业设备供应
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