美国 University Wafer 石英玻璃基板 UV透射 光刻掩模版
美国 University Wafer 石英玻璃基板 UV透射 光刻掩模版 是一款专为UV光刻掩模版基板、微流控芯片、深紫外光学窗口设计的高性能产品。University Wafer Fused Silica Substrate 凭借其优异的技术指标和稳定的运行表现，广泛应用于各类专业场景。元锤 OneHammer 作为University Wafer在中国的重要合作伙伴，提供该产品的选型咨询、技术支持和进口采购服务。
技术规格
| 透射率 | >90% @193-2000 nm |
| 尺寸 | 4-8英寸 |
| 热膨胀系数 | 0.55×10⁻⁶ /K |
| 用途 | UV光刻掩模版基板、微流控芯片、深紫外光学窗口 |
产品概述
美国 University Wafer Fused Silica Substrate 融合了先进的设计理念和精密的制造工艺，在UV光刻掩模版基板、微流控芯片、深紫外光学窗口方面表现出色。该产品具备精度高、响应快、可靠性好等突出特点。University Wafer凭借在该领域多年的技术积累，确保产品性能始终处于行业领先水平。
该产品适用于UV光刻掩模版基板、微流控芯片、深紫外光学窗口，其设计充分考虑了实际应用中的各种工况需求，可满足关键性能指标要求。产品出厂前经过严格的质量检验和性能测试，确保每台设备均达到预期的技术标准。