美国 Thermionics E-Beam 电子束蒸发源是超高真空薄膜沉积系统的核心组件，利用高能电子束轰击靶材使其蒸发并沉积在基片上。适用于 Au、Pt、Ti、SiO₂、Al₂O₃ 等多种金属和氧化物薄膜的精密镀膜。可配备多坩埚转台实现多材料连续蒸镀，广泛应用于光学镀膜、半导体电极和 MEMS 器件制备。
| 型号 | E-Beam 蒸发源 |
| 电子束功率 | 3 kW – 10 kW（可选） |
| 加速电压 | 6 kV – 10 kV |
| 坩埚配置 | 4 位 / 6 位 / 8 位转台 |
| 束斑尺寸 | 1 – 10 mm（可调） |
| 工作真空 | ≤ 5 × 10⁻⁷ Torr |
| 冷却方式 | 水冷 |
| 品牌 | Thermionics（美国） |
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