Ossila L2003A紧凑型旋涂机专为实验室薄膜制备设计，基片尺寸最大50×50mm。转速范围100-6000rpm，加速时间<50ms。内置氮气吹扫口用于溶剂气氛控制，带真空吸附和盖板安全锁定。彩色触控屏操作，可保存100组配方。机体小巧(200×250×150mm)，适合手套箱内使用。
| 参数 | 规格/描述 |
|---|---|
| 基片尺寸 | 最大 50×50 mm |
| 转速范围 | 100-6000 rpm |
| 加速时间 | <50 ms |
| 外部尺寸 | 200×250×150 mm |
产品应用
- 钙钛矿太阳能电池活性层旋涂制备
- OLED/QLED发光层薄膜均匀涂布
- 光刻胶涂覆与微纳加工薄膜制备
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联系方式
元锤 OneHammer 专注进口科学仪器与工业设备供应
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