美国 Angstrom Sciences 磁控溅射阴极 平面靶枪 薄膜沉积
美国 Angstrom Sciences 磁控溅射阴极 平面靶枪 薄膜沉积 是一款专为金属/氧化物薄膜磁控溅射沉积、实验室及小批量生产设计的高性能产品。Angstrom Sciences Sputtering Cathode 凭借其优异的技术指标和稳定的运行表现，广泛应用于各类专业场景。元锤 OneHammer 作为Angstrom Sciences在中国的重要合作伙伴，提供该产品的选型咨询、技术支持和进口采购服务。
技术规格
| 靶尺寸 | 2-6英寸圆形/矩形 |
| 冷却方式 | 水冷/气冷 |
| 最大功率 | 500-3000 W |
| 用途 | 金属/氧化物薄膜磁控溅射沉积、实验室及小批量生产 |
产品概述
美国 Angstrom Sciences Sputtering Cathode 融合了先进的设计理念和精密的制造工艺，在金属/氧化物薄膜磁控溅射沉积、实验室及小批量生产方面表现出色。该产品具备精度高、响应快、可靠性好等突出特点。Angstrom Sciences凭借在该领域多年的技术积累，确保产品性能始终处于行业领先水平。
该产品适用于金属/氧化物薄膜磁控溅射沉积、实验室及小批量生产，其设计充分考虑了实际应用中的各种工况需求，可满足关键性能指标要求。产品出厂前经过严格的质量检验和性能测试，确保每台设备均达到预期的技术标准。