美国 Angstrom Sciences Onyx-2 磁控溅射源 2英寸平面靶 实验室薄膜制备
美国 Angstrom Sciences Onyx-2 磁控溅射源 2英寸平面靶 实验室薄膜制备 是一款专为实验室薄膜制备、金属/氧化物/氮化物溅射沉积设计的高性能产品。Angstrom Sciences Onyx-2 Magnetron Sputtering Source 凭借其优异的技术指标和稳定的运行表现，在行业内获得了广泛认可。元锤 OneHammer 作为Angstrom Sciences在中国的重要合作伙伴，提供该产品的选型咨询、技术支持和进口采购服务。
技术规格
| 靶尺寸 | 2英寸圆形 |
| 安装方式 | 顶部/侧部法兰安装KF40 |
| 冷却方式 | 水冷 |
| 最大功率密度 | 20 W/cm² |
| 用途 | 实验室薄膜制备、金属/氧化物/氮化物溅射沉积 |
产品概述
美国 Angstrom Sciences Onyx-2 Magnetron Sputtering Source 融合了先进的设计理念和精密的制造工艺，在实验室薄膜制备、金属/氧化物/氮化物溅射沉积方面表现出色。该产品具备精度高、响应快、可靠性好等突出特点。Angstrom Sciences凭借在该领域多年的技术积累，确保产品性能始终处于行业领先水平。
该产品适用于实验室薄膜制备、金属/氧化物/氮化物溅射沉积，其设计充分考虑了实际应用中的各种工况需求。产品出厂前经过严格的质量检验和性能测试，确保每台设备均达到预期的技术标准。