Angstrom Sciences SiO₂光学镀膜靶材 – 二氧化硅溅射靶

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Angstrom Sciences SiO₂光学镀膜靶材

Angstrom Sciences SiO₂(二氧化硅)溅射靶材采用高纯熔融石英原料经热压烧结工艺制成,纯度≥99.995%,密度≥2.2g/cm³。产品具有优异的介电性能、光学透过性和化学稳定性,广泛应用于光学镜片AR减反射膜、半导体绝缘层、平板显示钝化层及光波导器件等领域。提供平面靶和旋转靶两种结构形式。

产品规格

参数 规格
材料 SiO₂(二氧化硅)
纯度 ≥ 99.995% (4N5)
密度 ≥ 2.2 g/cm³
结构类型 平面靶 / 旋转靶,可定制

典型应用

  • 精密光学镜头AR减反射膜镀膜
  • 半导体器件SiO₂绝缘层沉积
  • 平板显示TFT钝化保护层

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