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Angstrom Sciences SiO₂光学镀膜靶材
Angstrom Sciences SiO₂(二氧化硅)溅射靶材采用高纯熔融石英原料经热压烧结工艺制成,纯度≥99.995%,密度≥2.2g/cm³。产品具有优异的介电性能、光学透过性和化学稳定性,广泛应用于光学镜片AR减反射膜、半导体绝缘层、平板显示钝化层及光波导器件等领域。提供平面靶和旋转靶两种结构形式。
产品规格
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 材料 | SiO₂(二氧化硅) |
| 纯度 | ≥ 99.995% (4N5) |
| 密度 | ≥ 2.2 g/cm³ |
| 结构类型 | 平面靶 / 旋转靶,可定制 |
典型应用
- 精密光学镜头AR减反射膜镀膜
- 半导体器件SiO₂绝缘层沉积
- 平板显示TFT钝化保护层
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