Angstrom Sciences 镍铬（NiCr 80:20）旋转溅射靶材采用真空熔炼+热等静压工艺制成，成分均匀、晶粒细密。该靶材电阻率高、抗氧化性能优异，专用于薄膜电阻器、精密合金薄膜及加热膜层的溅射沉积。
技术规格
| 材料成分 | Ni:Cr = 80:20 wt% |
| 纯度 | ≥ 99.95% |
| 密度 | ≥ 8.3 g/cm³ |
| 尺寸范围 | 外径 100-150 mm × 长度 500-1500 mm |
产品应用
- 精密薄膜电阻器 NiCr 电阻层溅射
- MEMS 加热器薄膜制备
- 高温合金防护涂层沉积
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联系方式
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