法国 Alesa 离子辅助镀膜源 低温高密度薄膜沉积
法国 Alesa 离子辅助镀膜源 低温高密度薄膜沉积 是一款专为低温基板致密光学薄膜沉积、高折射率氧化物薄膜离子辅助设计的高性能产品。Alesa IAD Source、IAD-300 凭借其优异的技术指标和稳定的运行表现，广泛应用于各类专业场景。元锤 OneHammer 作为Alesa在中国的重要合作伙伴，提供该产品的选型咨询、技术支持和进口采购服务。
技术规格
| 离子能量 | 50-300 eV |
| 束流 | 0-500 mA |
| 气体 | Ar/O₂/N₂ |
| 用途 | 低温基板致密光学薄膜沉积、高折射率氧化物薄膜离子辅助 |
产品概述
法国 Alesa IAD Source、IAD-300 融合了先进的设计理念和精密的制造工艺，在低温基板致密光学薄膜沉积、高折射率氧化物薄膜离子辅助方面表现出色。该产品具备精度高、响应快、可靠性好等突出特点。Alesa凭借在该领域多年的技术积累，确保产品性能始终处于行业领先水平。
该产品适用于低温基板致密光学薄膜沉积、高折射率氧化物薄膜离子辅助，其设计充分考虑了实际应用中的各种工况需求，可满足等关键性能指标要求。产品出厂前经过严格的质量检验和性能测试，确保每台设备均达到预期的技术标准。
IAD-300端部霍尔型离子源，无需栅极维护，适合长期稳定运行。在室温基板上即可沉积出块材密度级别的光学薄膜，显著提升薄膜硬度和环境稳定性。