Alesa Helios 射频离子源专为光学镀膜辅助沉积设计，采用RF射频放电无灯丝结构，免除灯丝污染风险。离子束能量100-500eV连续可调，束流密度可达5mA/cm²，束斑直径覆盖50-300mm。支持Ar、O₂、N₂等多种工作气体，可实现离子束清洗、离子辅助沉积和离子束抛光多种工艺模式。显著提升薄膜致密度、降低吸收损耗，是SYRUS和SIRIUS系列镀膜机的理想配套设备。
| 品牌 | Alesa |
| 国家 | 瑞士 |
| 型号 | Helios 300 |
| 放电方式 | RF射频无灯丝 |
| 离子能量 | 100 ~ 500 eV |
| 束流密度 | 最大5mA/cm² |
| 束斑直径 | 50 ~ 300mm |
| 工作气体 | Ar / O₂ / N₂ |
| 工艺模式 | 清洗 / 辅助沉积 / 抛光 |
| 适用设备 | SYRUS / SIRIUS 镀膜机 |
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